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等离子体增强化学气相沉积系统


厂家型号:中国科学院沈阳仪器公司  

仪器配置: 
      进口分子泵+机械泵+罗茨泵抽真空系统,安装流量计、压力控制器、气动电磁阀、气动截止阀、单向阀。可以手动控制,泄露报警。 

应用领域: 
      广泛应用于大面积优质薄膜的制备
      1.用于在基片上生成高质量SiNx、石墨烯非晶硅SiO2薄膜、α-Si、Poly-Si、PN结类金刚石薄膜、光学薄膜、介质膜等,沉积温度范围宽(01000摄氏度可调)
      2.用于微电子和光电子领域科研和生产特别适用于半导体器件和集成电路的钝化,用以提高器件和集成电路可靠性
      3.太阳能电池研发
      4.碳纳米管(CNT)选择性制备和生长
      5.等离子诱导表面改性
      6.等离子清洗(氢气
      7.反应离子蚀刻。
      8.等离子体聚合。

      9.等离子清洗灰化系统。

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