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PLD在金刚石和类金刚石薄膜的应用


金刚石薄膜以其在热学、力学、光学以及电子学方面的优良特性, 作为保护薄膜和电子材料, 应用很广而潜力巨大, 是薄膜材料研究中的重点。以四重配应为主的非晶碳具有可与结晶金刚石相当的力学性能。这类非晶碳称“类金刚石”。脉冲激光沉积因其可以控制材料的成分和成膜速度快, 被广泛采用。Jayatissa 等用XeCl 准分子激光器在Si 面上沉积出类金刚石薄膜, 分析表明, 制备出薄膜含有C- H 震动键以及含有SP3键的类金刚石成分和SP2 键的类碳分。Mamoru Yoshimoto 等首次尝试在纯O2 气氛下用PLD 法制备不含H等杂质的金刚石薄膜并取得成功。

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